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[美洲灯具] 出美国的灯具和出欧洲的灯具,打耐压的差别

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发表于 2012-11-19 09:41 | 显示全部楼层 |阅读模式
广东安规检测
有限公司提供:
出美国的灯具和出欧洲的灯具,打耐压的差别有哪些呢?也就是说IEC和UL标准对灯具的电气强度规定有什么差异?我记得60598-2008已经将电压有4U+2750调整到了4U+2000了好像?UL的标准里面有些说打2U+1000V,也有说直接是2500V的,怎么区别的?请各位大哥赐教。
发表于 2012-11-19 10:23 | 显示全部楼层
UL标准对于打高压,分不同标准不同产品要求不同。/ r# T+ B" i* {! {: L) J1 W' V+ ~+ H
一般白炽灯都是打1200V, 其他光源的大部分是2U(2倍额定电压)+1000V。
* R& m/ ?% T/ G! ?- u

点评

版主出现了!!!!!!!  发表于 2012-11-21 08:05
发表于 2012-11-19 10:32 | 显示全部楼层
EN的已经改成加强或者/双重绝缘4U+2000,基本绝缘/附件绝缘“2U+1000,SELV耐压为500V$ c6 ~& Q6 w9 m: M1 {6 A8 a
UL对于LED产品一般为2U+1000,但是也有特殊情况,如LED光源,非金属部分是打2500V
 楼主| 发表于 2012-11-19 14:11 | 显示全部楼层
UL对电气间隙有要求吗?我们的PAR灯在打1240V时可以通过,但是铝基板上面LED颗粒间的距离小于1.2mm,可以接受吗?
发表于 2012-11-19 15:07 | 显示全部楼层
根据UL1993表6.1, 1.2mm是裸露的带电体之间的距离要求. led灯珠之间的距离, 主要看灯珠引脚间的距离以及铝基板上铜箔间的距离. 如果现在不够, 可以考虑看看灯泡内部的驱动是否可以满足LVLE的要求, 如果可以满足, LED灯珠间的距离就不用考虑.
 楼主| 发表于 2012-11-19 17:41 | 显示全部楼层
jsspace 发表于 2012-11-19 10:32
! s' [7 Y1 o) n3 N6 T5 e( B! uEN的已经改成加强或者/双重绝缘4U+2000,基本绝缘/附件绝缘“2U+1000,SELV耐压为500V
  i$ a' K# [) Z6 `/ `' n' g4 K" rUL对于LED产品一般为 ...

/ D9 }( ]  B% i+ a0 M您这个“特殊情况”是在哪个标准里面有的?
发表于 2012-11-20 08:02 | 显示全部楼层
切莫溪水 发表于 2012-11-19 14:11 " p) B) B8 J2 |8 X; S# [' r
UL对电气间隙有要求吗?我们的PAR灯在打1240V时可以通过,但是铝基板上面LED颗粒间的距离小于1.2mm,可以接 ...

. E( Z- a' q# A9 k你还是看看标准吧
1 b: B' X9 G: _* `1.2毫米是带电部件和可触及外壳的距离
) B1 G! A+ b# Q+ a/ T6 ?PCB上的距离可以通过打耐压来验证
发表于 2012-11-20 08:04 | 显示全部楼层
切莫溪水 发表于 2012-11-19 17:41
; K% N3 M  w3 Z7 z' [您这个“特殊情况”是在哪个标准里面有的?

9 J) D& X$ J4 Q1 j请参考UL1993 第8.6.2章节
 楼主| 发表于 2012-11-20 18:53 | 显示全部楼层
jsspace 发表于 2012-11-20 08:04 2 R5 V# x& B3 f, x+ |5 P
请参考UL1993 第8.6.2章节

6 Z# d, |( @  Y9 H8 n; |UL1993  只有8.2章节啊,没见到8.6.2

点评

你手头上的标准就不是最新版本的标准了  发表于 2012-11-21 09:53
发表于 2012-11-21 08:58 | 显示全部楼层
8.6.2 A device with accessible nonmetallic parts and openings in the enclosure shall withstand for 1
' Q( V) y8 W; u4 h% tminute, without breakdown, the application of a test potential of 2500 V between live parts and metal foil in contact with accessible nonmetallic parts. The test shall be performed while the device is hot from, r. o' s9 |+ W
normal operation.
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