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目录:' d3 `2 Z8 ?; l
8 ?' M# U7 P& ?/ I+ m" G( A先进可靠性分析导论
1 G6 [9 U8 q. J9 U3 ]8 u ┃
8 ~0 {$ g% B7 R9 K, ^0 y. ]) h ┣第一部分 概述
% E* c5 y! b ]2 X. Q1 I ┃┃4 X' [: o3 h' T
┃┣1.可靠性工作的目的
5 @& B6 r4 `3 @9 g5 H7 E A; D ┃┣2.可靠性工作的理论基础
4 L/ J: ~0 W/ d$ y ┃┣3.可靠性工作的核心途径! c2 d8 _. n: R, {0 }) O
┃┣4.可靠性分析的入手点
" L5 ]) C- I* B ┃┣5.研究失效问题的工具
3 Y) B0 r0 E) v, B6 s! a6 T8 y2 f ┃┗6.可靠性数据
; s, `. o# i6 Q* d4 {# l% B/ y ┃
, d8 j3 u) Y2 J. x* _+ W ┗第二部分
0 f/ A: \- U+ s1 P3 N ┃+ b4 `4 C" T; o ]7 d: h# X# j
┣第一讲:失效分析概论 {0 `, V! `$ z+ H @, j8 T8 v
┃┃
7 P$ \5 X( ^$ e: |- ]3 F K ┃┣1.基本概念% C' d4 ^, X2 }( K7 g& s' i
┃┣2.失效分析的定义和作用
6 Z' Z' m; R# x. R, f4 z# A ┃┣3.失效模式
# z( |; Z& z5 h0 O ┃┣4.失效机理
) a* r5 Z6 C1 z, [ ┃┗5.一些标准对失效分析的要求
# H* N% T9 f% D* L ┃
% q0 L. X; V' {" j ┣第二讲:分析技术及设备- ^+ G* `% f5 N$ G; O/ x
┃┃ I5 U/ Q8 G6 Y, Y4 \2 T% k8 b# A
┃┣1.失效分析程序% j5 D% T3 `# v# R4 b) C$ }
┃┣2.非破坏性分析技术- `. Q" o9 s: }" R. D8 V4 `
┃┣3.半破坏性分析技术) P2 y4 [7 r- P8 O- g0 l
┃┣4.破坏性分析技术+ e) Q9 B+ m, g9 k
┃┗5.分析技术与设备清单
+ q3 j! Z* u2 w6 l" z* o& W4 v ┃
9 G0 D( a0 `+ \; } ┗第三讲:失效分析典型案例4 ?/ v0 z) V. w1 X% f3 Z4 `. a- s) \# F) ?1 _
┃
9 \# M3 R) q" H2 m) o ┣电路设计缺陷引起的失效& f. S$ |7 v% n0 @6 Q( f
┣CMOS IC闩锁效应失效4 u% w4 R; i1 q. w# Q; r+ _8 F, ^/ w! Q
┣ESD—静电放电损伤失效
5 S- I% K3 r) p2 i ┣过电损伤失效
. s- U9 W! N& O# N$ ?0 c8 b+ q6 {& { ┣电腐蚀失效% l! ~) Z3 P U! D6 X" l
┣污染3 H$ }( H( o) p1 p8 T
┣机械应力损伤失效& E2 N: y/ [& r% E8 x, \# x; o
┣热结构缺陷引起过热失效
" {- o& v( {3 u' j+ \* _0 ^% f ┣材料缺陷案例
6 \7 ?7 U, K7 x! Q ┣工艺缺陷案例" }2 Z/ T2 C F# j# B3 h. s
┣寿命失效
4 E+ A$ c* T4 i' e ┗小结 |
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